Colocación de la primera piedra de la residencia universitaria del Campus Diagonal-Besòs

• Tendrá una capacidad de 300 plazas para estudiantes y personal docente e investigador
• El Campus Diagonal-Besòs se convertirá en una nuevo polo de innovación en tecnologías industriales

El pasado 25 de octubre tuvo lugar el acto de colocación de la primera piedra de la residencia universitaria del Campus Diagonal-Besòs de la Universidad Politécnica de Cataluña (UPC), que se comenzará a construir este mes de noviembre. Con una capacidad de 300 plazas para estudiantes y personal docente e investigador, el nuevo equipamiento estará a pleno rendimiento en el curso académico 2019-2020. Se trata de un equipamiento de más de 6.000 m² en que se invertirán 14 millones de euros.

La residencia se construirá dentro del Campus Diagonal-Besòs, junto a la futura zona verde del campus. Tendrá una amplia zona cubierta, como prolongación del actual paseo interior del Campus, un entorno abierto y sostenible que simboliza el intercambio de conocimiento y de ideas.

El equipamiento se construirá según los estándares de eficiencia energética Passive House, un conjunto de medidas rigorosas para reducir el impacto ambiental, como la doble orientación de las habitaciones, que permite una beneficiosa ventilación cruzada, de manera que se conseguirá atemperar las condiciones cálidas en verano. En este sentido, también se ha realizado un análisis solar del edificio en todas sus orientaciones para tener en cuenta la proyección de sombras a lo largo del día y en las diferentes épocas del año.

El Campus Diagonal-Besòs es un proyecto liderado por la Universidad Politécnica de Cataluña (UPC) conjuntamente con la Generalitat de Cataluña, las administraciones locales -encabezadas por los ayuntamientos de Barcelona y de Sant Adrià de Besòs-, el Consejo Comarcal del Barcelonès, el Área Metropolitana de Barcelona, la Diputación de Barcelona y el Consorcio del Besòs. Pretende convertirse en un nuevo polo de innovación que sea un referente internacional en tecnologías industriales, y final de la su ejecución el Campus Diagonal-Besòs tendrá una superficie total de 77.760 m² de suelo y 148.266 m² de techo edificable destinado a la docencia, la investigación y la empresa.

[23/11/2017]